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        鍍層厚度與ROHS分析儀
        簡要描述:

        鍍層厚度與ROHS分析儀采用Fp算法的后一代全新核心算法--理論Alpha系數(shù)法,基于熒光X射線激發(fā)的基本原理,從理論上計算出樣品中每個元素的一次和二次特征X射線的熒光強度,在基于此計算Lachance綜合校正系數(shù),然后使用這些理論a系數(shù)去校正元素間的吸收增強效應(yīng)。、可測試重復(fù)鍍層、非金屬、輕金屬以及有機物層。

        • 產(chǎn)品型號:XAU-4CS
        • 廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
        • 更新時間:2025-08-28
        • 訪  問  量:2137
        在線咨詢

        聯(lián)系電話:18926776507

        產(chǎn)品詳情

        儀器簡介:

        XAU-4CS是一款設(shè)計結(jié)構(gòu)緊湊,模塊精密化程度*的光譜分析儀,采用了下照式C型腔體設(shè)計,是一款一機多用型光譜儀。

        應(yīng)用核心EFP算法和微光聚集技術(shù),既保留了測厚儀檢測微小樣品和凹槽的性能,又可滿足微區(qū)RoHS檢測及成分分析。

        被廣泛用于各類產(chǎn)品的質(zhì)量管控、來料檢驗和對生產(chǎn)工藝控制的測量使用。

         

        產(chǎn)品優(yōu)勢:

        XAU產(chǎn)品優(yōu)勢.png

         鍍層厚度與ROHS分析儀

        技術(shù)參數(shù):

        1. 成分分析范圍:鋁(Al)- 鈾(U)

        2. 成分低檢出限:1ppm

        3. 涂鍍層分析范圍:鋰(Li)- 鈾(U)

        4. 涂鍍層低檢出限:0.005μm

        5. 小測量直徑□0.1*0.3mm(小測量面積0.03mm²)

            標(biāo)配:小測量直徑0.3mm(小測量面積0.07mm²)

        6. 對焦距離:0-30mm

        7. 樣品腔尺寸:500mm*360mm*215mm

        8. 儀器尺寸:550mm*480mm*470mm

        9. 儀器重量:45KG

        10. XY軸工作臺移動范圍:50mm*50mm

        11. XY軸工作臺大承重:5KG

         鍍層厚度與ROHS分析儀

        應(yīng)用領(lǐng)域:

        1600160186925699.png

         

        多元迭代EFP核心算法號:2017SR567637)

        專業(yè)的研發(fā)團隊在Alpha和Fp法的基礎(chǔ)上,計算樣品中每個元素的一次熒光、二次熒光、靶材熒光、吸收增強效應(yīng)、散射背景等多元優(yōu)化迭代開發(fā)出EFP核心算法,結(jié)合*的光路轉(zhuǎn)換技術(shù)、變焦結(jié)構(gòu)設(shè)計及穩(wěn)定的多道脈沖分析采集系統(tǒng),只需要少量的標(biāo)樣來校正儀器因子,可測試重復(fù)鍍層、非金屬、輕金屬、多層多元素以及有機物層的厚度及成分含量。

        單涂鍍層應(yīng)用:如Ni/Fe、Ag/Cu等

        多涂鍍層應(yīng)用:如Au/Ni/Fe、Ag/Pb/Zn等

        合金鍍層應(yīng)用:如ZnNi/Fe、ZnAl/Ni/Cu等

        合金成分應(yīng)用:如NiP/Fe,通過EFP算法,在計算鎳磷鍍層厚度的同時,還可分析出鎳磷含量比例。

        重復(fù)鍍層應(yīng)用:不同層有相同元素,也可測量和分析。

        如釹鐵硼磁鐵上的Ni/Cu/Ni/FeNdB,一層Ni和第三層Ni的厚度均可測量。

        有害元素檢測:RoHS檢測,可滿足鉛(Pb)、汞(Hg)、鎘(Cd)、六價鉻(Cr VI)等有害元素的成分檢測及含量分析

         

        選擇一六儀器的四大理由:

        1.一機多用,無損檢測(涂鍍層檢測-環(huán)保RoHS-成分分析)

        2.小測量面積0.002mm²

        3.可檢測凹槽0-30mm的異形件

        4.輕元素,重復(fù)鍍層,同種元素不同層亦可檢測

         

        配置清單:

        XAU-4CS.png

         

        XAU-4CS是一款設(shè)計結(jié)構(gòu)緊湊,模塊精密化程度*的光譜分析儀,采用了下照式C型腔體設(shè)計,是一款一機多用型光譜儀。

        應(yīng)用核心EFP算法和微光聚集技術(shù),既保留了測厚儀檢測微小樣品和凹槽的性能,又可滿足微區(qū)RoHS檢測及成分分析。

        被廣泛用于各類產(chǎn)品的質(zhì)量管控、來料檢驗和對生產(chǎn)工藝控制的測量使用。

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